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導(dǎo)讀：補(bǔ)上最后的技術(shù)拼圖，國產(chǎn)光刻機(jī)突破核心技術(shù)，要跟ASML說再見了

眾所周知，在老美多次修改芯片規(guī)則以后，就讓芯片的重要性逐漸凸顯出來，如今整個科技領(lǐng)域的發(fā)展幾乎都離不開半導(dǎo)體芯片的支持，而我們要想不被人卡脖子發(fā)展，那么就必須要打造出屬于我們自己的國產(chǎn)芯片供應(yīng)鏈體系才行；在經(jīng)歷了華為事件以后，國內(nèi)就開始用舉國之力去發(fā)展半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)！

ASML光刻機(jī)被限制出貨

要想打造出屬于我們自己的國產(chǎn)芯片供應(yīng)鏈體系，那么首先我們就要解決光刻機(jī)的難題才行，別看一顆小小的芯片只有指甲蓋大小，但是在芯片的內(nèi)部卻集成了上億個晶體管線路，而想要完成這些線路的部署，那么也只有先進(jìn)的光刻機(jī)才能完成；目前全球領(lǐng)先的光刻機(jī)都被荷蘭ASML一家所壟斷，在老美的限制下，就算是我們有錢也無法從ASML手中買到最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)！

補(bǔ)上最后的技術(shù)拼圖，國產(chǎn)光刻機(jī)突破核心技術(shù)

在這種情況下，我們也只剩下了自主研發(fā)光刻機(jī)一條路可走，很快國內(nèi)的中科院、清華大學(xué)等機(jī)構(gòu)都展開了對光刻機(jī)等卡脖子技術(shù)的研發(fā)，眼看著中國在光刻機(jī)領(lǐng)域快速的發(fā)展起來，ASML則表示：就算是公開光刻機(jī)的圖紙，中國也無法造出光刻機(jī)來，因?yàn)橐慌_先進(jìn)的EUV光刻機(jī)含有10萬多個零部件；但盡管如此，也無法阻擋國內(nèi)研發(fā)光刻機(jī)的步伐，而且我們已經(jīng)補(bǔ)上了最后的技術(shù)拼圖，國產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)突破核心技術(shù)！

國內(nèi)掀起自主制造光刻機(jī)的浪潮

在無法依靠ASML光刻機(jī)的前提下，國內(nèi)的眾多科技企業(yè)都開始抱團(tuán)發(fā)展，并成立光刻機(jī)等卡脖子技術(shù)的攻關(guān)小組，而且最近在兩年在國內(nèi)半導(dǎo)體市場上，我們還逐漸掀起了一股自主制造光刻機(jī)和芯片的浪潮，我們相信只要國內(nèi)科技企業(yè)肯努力研發(fā)，那么一定會取得突破！

隨著國內(nèi)科技企業(yè)的不斷研發(fā)和突破，我們已經(jīng)在光刻機(jī)的核心技術(shù)光源、物鏡、雙工件臺等領(lǐng)域都取得了突破，而現(xiàn)在又傳來消息，我們在光刻機(jī)最核心的浸潤系統(tǒng)領(lǐng)域也突破了關(guān)鍵的核心技術(shù)，國內(nèi)廠家啟爾機(jī)電已經(jīng)攻破了浸潤系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)誤差正負(fù)值為0.001度液體溫度的高精度控制，這一水平顯然已經(jīng)達(dá)到了國際頂尖水準(zhǔn)，對此也有外媒表示：這是要跟ASML說再見了！

如今光刻機(jī)所擁有的核心技術(shù)光源、物鏡、雙工件臺，以及浸潤系統(tǒng)我們都已經(jīng)取得了突破，這也意味著我們已經(jīng)補(bǔ)齊了光刻機(jī)的最后一塊技術(shù)拼圖，有了浸潤系統(tǒng)以后，我們就能打造出浸潤式光刻機(jī)，這對于國產(chǎn)半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展來說，意義也是重大的，盡管說我們在短時間里還無法突破最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)的技術(shù)，但是有了國產(chǎn)光刻機(jī)我們能實(shí)現(xiàn)28nm成熟工藝芯片的生產(chǎn)，那么在汽車等工業(yè)芯片領(lǐng)域我們也就不會在被卡脖子了，不知道對此你是怎么看的呢？